产品中心
技术文章
您现在所在位置:首页 > 技术中心 > 硅片扩散超声波清洗机的扩散方式

硅片扩散超声波清洗机的扩散方式

 更新时间:2024-05-31 点击量:122
硅片扩散超声波清洗机的扩散方式主要围绕其清洗过程进行。
清洗原理:
利用超声波的振动能量和清洗剂的作用,高效地去除硅片表面的污垢、油脂、氧化物等杂质。
超声波发生器产生高频振动,通过清洗槽传递到清洗液中,形成“空化效应”,将硅片表面的污垢击碎并分散到清洗液中。
清洗流程:
将待清洗的硅片放入清洗机中。
加入适量的清洗液,如去离子水、有机碱、Q325-B清洗剂、活性剂等。
启动超声波发生器,使清洗液产生振动。
清洗过程中,清洗液中的微小气泡会附着在硅片表面,并随着超声波的振动而产生冲击力,帮助剥离硅片表面的污垢和杂质。
经过一定时间的清洗后,硅片表面的污垢和杂质会被剥离并分散在清洗液中。
通过清洗液的循环流动,将剥离的污垢和杂质排出清洗机。
取出清洗完成的硅片,完成整个清洗过程。
清洗方式选择:
硅片扩散超声波清洗机提供了多种清洗方式,包括但不限于纯水清洗、胆碱清洗、冷热纯水冲洗、酸洗(如HF酸洗)等。这些清洗方式可以根据硅片表面的污垢种类和清洗要求进行选择。

传真:0537-2279761

邮箱:lcluchao@126.com

地址:山东省济宁市任城区安居街道张桥村东300米

备案号:鲁ICP备16045956号-2  管理登陆  技术支持:化工仪器网  sitemap.xml

版权所有 © 2024 山东济宁鲁超超声设备有限公司

在线客服 联系方式 二维码

服务热线

13853766211

扫一扫,关注我们