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硅片超声波清洗机的清洗原理

 更新时间:2024-03-28 点击量:412
硅片超声波清洗机的清洗原理主要依赖于超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用。具体来说,清洗机将电能转化为机械能,使清洗槽中的液体产生高频振动,形成声波。当声波作用于硅片表面时,会在其表面形成微小的气泡并迅速破裂,从而产生强大的冲击力,将硅片表面的污垢和杂质剥离并分散在清洗液中。
这些气泡在液体中振动并快速崩溃,产生微小的擦洗动作,从而去除硅片表面的颗粒。这一过程称为空化作用,它有助于将污物层分散、乳化、剥离,达到清洗的目的。
此外,超声波清洗机还包括超声波发生器、清洗槽、输送带、过滤器、回收系统等部分。超声波发生器产生高频振动,通过清洗槽传递到清洗液中。输送带将硅片逐一输送到清洗槽内,而过滤器则用于过滤掉清洗液中的杂质。回收系统可以将清洗液循环使用,减少浪费。
注意的是,使用超声波清洗机前需要对硅片表面进行预处理,如去除表面的油脂和松散物质,以确保清洗效果。此外,该清洗机不仅适用于硅片,还可用于清洗光学设备、塑料残留物等其他材料,具有广泛的应用范围。

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