硅片甩干机的碱性清洗液的主要成分是苛性碱、磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、鳌合剂和表面活性剂，苛性碱具有强碱性,能够中和Si片表面的酸性沾污物,另外强碱的皂化作用可以将油脂分解成可溶的物质随清洗液冲走。磷酸盐和硅酸盐都能提供一定的清洁效果。碳酸盐具有弱碱性,pH值在9-9.5,碳酸盐的主要作用是作为缓冲剂,使清洗液的pH值保持在一定范围内。
鳌合剂一方面通过化学反应减少溶液中的自由金属离子,另一方面通过竞争吸附提前吸附在Si片表面从而减少金属在Si片表面的附着。碱性清洗液的清洗效果与pH值也有着密切关系,随着清洗液的重复使用,pH必然下降,但是碳酸盐的缓冲作用使这一过程的速度明显降低,另外-OH与Si的两步反应使得溶液中-OH浓度在反应达到平衡后基本保持不变,延长了硅片甩干机的清洗液使用时间,生产中药槽的更换频次一般控制在每洗2000-4000片换一次清洗液。
药槽中添加的表面活性剂的分子是由亲水基团和亲油基团构成的,即可溶解在极性溶液中,又可以溶解在非极性溶液中。表面活性剂的性质主要由亲水基团决定,一类是溶解于水后能解离的离子型表面活性剂,另一类是在水中不能解离的非离子型表面活性剂。在半导体清洗中为避免离子沾污通常使用非离子型表面活性剂。硅片甩干机在切片过程中,切屑、油污、金属原子等易粘附在Si片表面,清洗液中的表面活性剂一方面能吸附各种粒子、有机分子,并在Si表面形成一层吸附膜,阻止粒子和有机分子污粘附在Si表面上,另一方面可渗入到粒子和油污粘附的界面上,把粒子和油污从界面分离随清洗液带走,起到清洗作用使Si片表面洁净。
